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陕西云中实业发展有限公司 | Updated: Nov 09, 2016
Source: 溅射目标


磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相沉积法,与早期的蒸镀法相比,其优点明显。 作为成熟的技术,磁控溅射已被广泛应用于许多领域。


磁控溅射靶:


金属合金溅射靶,溅射靶,溅射陶瓷靶,硼化物陶瓷溅射碳化物陶瓷溅射氟化物陶瓷溅射氮化物陶瓷氧化物陶瓷靶溅射,硒化物陶瓷溅射陶瓷硅化物溅射硫化物陶瓷溅射碲化物陶瓷溅射其他陶瓷靶,掺杂铬的氧化硅陶瓷目标(Cr-SiO),磷化铟(InP),砷铅靶(PbAs),砷靶(InAs)靶。


高纯度高密度施工目标是:


溅射靶(纯度:99.9%-99.999%)


1金属靶:

靶,Ni,镍钛靶,Ti,Zn,Cr,Zn,Mg,Cr,靶Mg,靶Nb,靶,目标铌锡,Sn,铝靶和Al靶,In,铁和铟靶,Fe,靶,ZrAl,ZrAl Ti和Al靶,TiAl,锆靶Zr,AlSi,硅铝硅靶,靶Si,靶Cu,靶T铜,钽靶,Ge,a,Ge,Ag,钴银目标靶,Au,Gd,金靶,靶Gd,靶La,靶钇,镧,铈,靶,Ce,Y钨靶,W,不锈钢,镍铬靶靶,靶和Hf,NiCr,铪钼靶和Mo目标,FeNi,铁镍,钨靶,W等。


2陶瓷靶


氧化镁ITO靶,靶,靶,靶,氧化铁,氮化硅,氮化钛,碳化硅靶标靶,靶,氧化锌铬,硫化锌,二氧化硅靶靶靶,氧化硅氧化铈靶,二氧化锆靶,五氧化二铌靶和二氧化钛靶,二氧化锆靶,二氧化铪靶,二硼化硼二硼化物靶,二靶,靶二氧化铝三氧化钨,三靶五五二氧化钽,氧化镁,镁氟化物,铌靶靶标靶,ZnSe钇氟化物,氮化铝靶,氮化硅氮化硼靶,靶,氮化钛靶,碳化硅靶,铌酸锂靶,靶,靶钛酸镨钛酸钡,钛酸镧靶,镍氧化物靶,溅射靶等。


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