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溅射(溅射)是PVD薄膜的一种制备技术。

陕西云中实业发展有限公司 | Updated: Nov 16, 2016
Source: 溅射(溅射)是一种PVD薄膜的制备技术。


溅射(溅射)是一种PVD薄膜的制备技术,主要分为直流溅射,交流溅射,反应溅射和磁控溅射四种。

PVD薄膜制备技术:溅射


原则如图:

原理:用带电粒子轰击靶子,加速固体表面的离子轰击,表面原子碰撞和能量转移和动量,使靶原子从表面逸出并沉积在基体材料上。 带电粒子(常用气体正离子)靶材表面轰击一种材料,目标原子或分子的表面逃脱现象,同时由于溅射工艺的转化而含有动量,所以溅射的粒子是定向的


用途:可以在基材表面形成金属,合金或电介质膜的表面。 适用于制造薄膜集成电路,芯片引线器件和半导体器件。

方法:溅射薄膜通常在惰性气体(如氩气)的等离子体中产生。

特点:溅射工艺具有基板温度低,薄膜质量均匀,结构紧凑,坚固性好,重现性好等优点。


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