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溅射原理
Oct 25, 2016


所谓的溅射法是一种半导体或FPD制造,广泛应用于薄膜制造技术之一,几十nm到几m,用于生产非常相等的薄膜方法。 通常使用溅射靶材料,例如金属或陶瓷。 溅射是氩离子冲击目标,原子(分子)释放和在基板上形成薄膜。 诸如ITO或锰的材料是能形成复合膜并使其等于膜的优良技术。

FPD(平板显示)目标

LCD目标产品信息


ITO目标

什么是ITO?

所谓的ITO(铟锡氧化物)是透明导电薄膜材料的代表,现在制造FPD(平板显示器)必需材料之一。 因为它是透明导电材料之一,在使用FPD,LCD,PDP,有机触摸屏时,PANEL EL被广泛应用,并且是使用的材料之一。 而且,也是使用部分薄膜太阳能电池的LED。 一般的ITO溅射法,以薄膜的形式使用。 该膜的基本特点是可见光透射率在90%以上,阻抗率为-cm为0.2μm,耐用性也非常好,FPD透明导电膜的使用率为90%以上是使用ITO。


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