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新型电磁溅射镀膜设备升级新设备及新技术

陕西允中实业发展有限公司 | Updated: Nov 08, 2016
Source: 新设想,新设备和新技术升级磁控溅射镀膜设备

目前,传统产业升级已成为国家战略决策层面,各级政府已经出台或即将出台各种融资政策。 在这种环境下,现场将继续推出一系列真空应用设备升级程序供用户参考。 本文重点介绍了磁控溅射和阴极电弧涂层设备升级的新途径和策略。


在真空镀膜设备中,背景真空和通气率是质量两个最重要的概念。 真空的背景是直观的,易于测量的,加上历史原因,用户已经习惯了它和真空等效的质量。 其实背景真空反映了这个想法,真空室是真空质量的本质。 在许多情况下,真空的结束会误导用户,导致泵送过程的使用不当,降低产品质量等一系列问题。


众所周知, 真空涂层可以大致分为两类:高真空涂层(如蒸发涂层)和工作气体环境中的真空镀膜(如磁控溅射和阴极电弧涂层)。


前者和底部的真空镀膜环境基本相同,其特点是基体压力对于真空质量没有问题,但这种涂装设备,通常体积大(约几米3),主要泵广泛应用于成千上万L / s抽油速度的油扩散泵,主要问题是能耗高,油气污染严重的两个问题,相应的对策将在另一篇论文中讨论。

后者,涂层的基础压力高于几十到几十倍的压力,真空涂层的基础真空差异很大,在选择真空泵和泵送过程中,经常产生误差和误解,本文将重点讨论文章。


在讨论之前,首先明确以下基本问题:


1,真空室Q的压力与真空室中的S量成比例,并且与真空泵工作条件的实际泵送速度成反比,即P.

Q / SP = 1


2涂层阶段的活性气体压力(主要是水汽)是影响涂层质量的关键,涂层设备是真空质量的实质指标。


3为真空室无需小心烘烤,经常暴露在大气中,底部活性气体的压力占90%以上。


测量结果表明,底部压力,泵送气体半小时,约90%的水蒸汽,泵送1小时,约95%的水蒸气,因此,涂层室(包括工件)的气体释放可以考虑所有活性气体。


4的本质就是降低涂层室的气体性质,底部的精细泵送速率将进入涂层阶段。 这可能是一个非常“迷惑”的推论:真空泵的有效泵送速度为3000L / s,低烟量为8 * 10-3 Pa,真空泵抽出质量和有效泵送速度为1500L / s,端泵到1.6 * 10-2 Pa相同,即精密泵送阶段由真空泵送速度越小,基座真空允许差!


测量结果表明:两种泵,泵送涂层室所需的相同气体速率进行溅射镀膜,所需时间大致相同,后者仅增加5分钟。 在重建方案中,粗抽时间可以节省5分钟,即涂层循环不变。


5×1,排气速率底部涂层气体分压的活性与涂层和快速泵送阶段的倒数成正比。


6喷涂阶段泵送速度和精密泵送阶段相同的情况(如蒸发),1反应气相涂层和分压在底部相同的压力,因此可以用底部压力来表征质量真空镀膜设备。


对于涂层阶段的不同场合,涂层阶段的活性气体的压力与底部压力不同,即真空质量不能用背景真空表征。

在磁控溅射(通常为0.5Pa)的8阶段,扩散泵(必须添加到节流阀),泵送速度仅为标称值1/6〜1/5,分子泵速度为标称值为50〜70%,气体分压的涂层活性为底压的5〜6倍和1.5〜2倍。 分子泵在高压下运行,也容易发生危险。


9推论:使用涂层泵抽速度大的真空泵,精细泵送阶段的底部压力可以更高,或抽吸速度可以降低。


提高。 可以看出,作为真空质量指标的底部压力是一个很大的误区。 原因可能与前者涂层的蒸发,磁控溅射以及人们的思维习惯有关。


8减少真空室内空气量的有效措施不是增加泵的抽速,而是延长泵送时间。


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