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Mo溅射靶

陕西允中实业发展有限公司 | Updated: Nov 14, 2016
Source: 钼溅射靶

溅射是磁控溅射的溅射靶,是一种新型的物理气相沉积(PVD)方法。


在具有正交磁场和电场的溅射靶(阴极)和阳极中,在充满惰性气体(通常为Ar)的高真空室中,在电场作用下,Ar气体离子化成离子和电子,靶具有一定的负压,通过电离目标的工作气体场的电离概率增加,在阴极附近形成高密度等离子体,Ar离子在洛伦兹力中的作用朝着目标表面加速,以非常高的速度轰击目标表面,目标是溅射原子,然后是更高的动能动量转移原理,从目标表面到基底沉积膜。


溅射涂料主要用于平板显示,玻璃涂料行业(主要包括建筑玻璃,汽车玻璃,光学玻璃,薄膜等)薄膜太阳能表面工程(装饰工具),(磁光记录介质),微电子,汽车照明,装饰涂料等。


在09年的旋转目标领域,首先提出了综合钼管目标的概念,得到了国内外客户的认可。 钼溅射靶可以根据用户要求提供以下尺寸:

平面目标:单一:小于或等于260kg,纯度:99.97%


旋转目标管目标:OD:140-180mm; ID:125- Phi Phi 135mm。 长度小于或等于3300mm,纯度大于99.97%。


化学成分

钼含量 其它元素含量总和 每种元素含量
≥99.97% ≤0.03% ≤0.001%

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